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用超高真空磁控溅射设备在不同溅射压强及衬底温度的工艺条件下制备了一系列Ｃｏ／Ｓｉ多层膜。Ｘ射线小角衍射证实所研制的多层膜具有周期调制结构。分别采用不同的理论方法计算了多层膜的周期和折射修正项。表明修正项不再仅对折射效应修正，而应理解为更广义的修正项。并应用广义修正总多层膜厚度Ｂｒａｇｇ公式确定出了主峰之间次峰的级数。