【摘 要】
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用直流反应磁控溅射法在未加热的玻璃基片上制备出晶态TiOx（x〈2）薄膜,研究关键工艺因素即氧气流量对薄膜的沉积速率、表面形貌、显微结构和光学特性的影响。研究结果表明：随着
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用直流反应磁控溅射法在未加热的玻璃基片上制备出晶态TiOx（x〈2）薄膜,研究关键工艺因素即氧气流量对薄膜的沉积速率、表面形貌、显微结构和光学特性的影响。研究结果表明：随着氧气流量增加,薄膜的沉积速率从38.54nm/min下降到3.28nm/min,溅射模式也从转变模式过渡到氧化模式,薄膜表面均方根粗糙度逐渐减小,表面更趋平整;当氧气流量≤5mL/min时,得到不透明的晶态TiOx（x〈2）薄膜;当氧气流量〉5mL/min时,所沉积的TiOx薄膜呈透明非晶态,薄膜平均透射率高于80%。
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