ICP-OES、ICP-MS测定纳米抗菌砧板中总银含量的方法比较

• 作 者: 张越 蒋鑫 朱晨 顾蔚 潘浩晖
• 机 构: 浙江方圆检测集团股份有限公司,浙江 杭州 310018;浙江农林大学,浙江 杭州 311314
• 出 处: 中国化工贸易
• 发表日期: 2020年19期
• 关键词: 纳米抗菌砧板 总银 电感耦合等离子体光谱法 电感耦合等离子体质谱法 方法比较

目的:用ICP-MS和ICP-OES法对纳米抗菌砧板中总银含量进行测定结果进行比较.方法:ICP-MS和ICP-OES法测定纳米抗菌砧板中总银含量,相对标准偏差分别为2.2％-4.3％和3.7％-5.0％,仪器检出限分别为0.03ng/mL和13ng/mL;回收率分别为92.1％-105.8％和90.1％-109.8％.结论:ICP-MS和ICP-OES两种方法对于检测纳米抗菌砧板中总银的含量都比较适合,准确度高,精密度好,其中ICP-MS的检出限明显低于ICP-OES,对于低含量的总银的测定更具优势.