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本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响.结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小于沿平行轧向截取的试片上沉积膜的应力,从而对薄膜的磁致伸缩性能产生相应的影响.
试片取向与IBS沉积TbDy—Fe膜应力及磁伸性能
【摘 要】
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本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响.结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小
【机 构】
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福州大学材料科学与工程学院
【出 处】
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真空科学与技术学报
【发表日期】
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2005年4期
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