【摘 要】
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GeSe纳米片独特的电子特性引起了我们的广泛关注。采用第一性原理的计算方法,我们系统地研究GeSe纳米片结构的V和Ⅶ族元素掺杂对其电子结构、形成能和跃迁能级的影响。结果表
【基金项目】
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supported by The High Performance Computing Center of Henan Normal University
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GeSe纳米片独特的电子特性引起了我们的广泛关注。采用第一性原理的计算方法,我们系统地研究GeSe纳米片结构的V和Ⅶ族元素掺杂对其电子结构、形成能和跃迁能级的影响。结果表明:无论是V族还是Ⅶ族元素的掺杂,掺杂体系的形成能均随杂质半径的增加而增加。V族元素掺杂体系的跃迁能级随杂质原子半径的增加而降低,而Ⅶ元素掺杂的体系却随杂质原子半径的增加而增加。其中,F、Cl、Br和I的掺杂为n型施主浅能级杂质,而N、P和As掺杂为p型受体深能级杂质。这些结果为相关的实验研究和应用提供了理论指导和参考。
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