自调高速镀铬液中铬电沉积机理之探讨

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本文研究了在铬酸、硫酸盐和氟硅酸自调高速镀铝电解液中铬电沉积的电极行为和氟硅酸对电极行为的影响;提出了“二次成膜”机理,并据以解释自调作用和氟硅酸的影响。 In this paper, the electrode behavior of chromium electrodeposited in chromic acid, sulfate and fluorosilicic acid self-adjusting aluminized electrolyte and the effect of fluorosilicic acid on the electrode behavior were investigated. The mechanism of “secondary film formation” Explain the effects of self-tuning and fluorosilicic acid.
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