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用光敏剂４，４’－二（Ｎ，Ｎ‘－二甲基－氨基）苯甲酮，引发剂邻氯代六芳基双咪唑和氢给体助引发剂十二烷基硫醇（ＳＨ）组成光敏引发体系。研究了在高压汞灯照射下，甲基丙烯酸甲酯（ＭＭＡ）光聚合速率和该敏化体系每一个组分，包括ＭＫ、ｏ－Ｃｌ－ＨＡＢＩ，ＳＨ和ＭＭＡ的关系，还研究了该体系在ＰＳ版材上的应用，并获得了很好的效果。