N~+、Xe~+离子注入银薄膜的实验分析

• 作 者: 张以忱 杨乃恒 庞世瑾 边为民
• 机 构: 中国科学院北京真空物理实验室,东北工学院
• 出 处: 真空科学与技术学报
• 发表日期: 1989年1期
• 关键词: 离子注入 XE 光电子能谱 薄膜晶体 注入剂量 晶粒尺寸 薄膜样品 透射电子显微镜 室温环境 银膜

实验研究了离子注入对多晶银薄膜晶体结构及表面成份的影响。在室温环境下,将能量为24keV的N⁺离子和350keV的Xe⁺离子以不同的注入剂量注入到多晶银薄膜中。对离子注入前后的银薄膜样品进行了透射电子显微镜（TEM）观察和X射线光电子能谱（XPS）及俄歇电子能谱（AES）分析。经分析发现,离子注入后在银薄膜中出现了再结晶和晶粒长大现象,而且晶粒尺寸随注入离子的剂量增加而增加。当注入的N<sup>+<