【摘 要】
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7 投影曝光在平板荫罩及一般的集成电路的光刻工艺中,大都采用接触曝光法,即将掩模板直接放在基板的光致抗蚀剂涂层之上,为了保证它们之间的紧密接触,还要抽真空,利用大气压
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7 投影曝光在平板荫罩及一般的集成电路的光刻工艺中,大都采用接触曝光法,即将掩模板直接放在基板的光致抗蚀剂涂层之上,为了保证它们之间的紧密接触,还要抽真空,利用大气压力,将掩模板均匀地压在光致抗蚀剂涂层上曝光。
7 Projection Exposure In the lithography process of flat panel shadow mask and general integrated circuits, most of the exposure methods are used. The mask is placed directly on the photoresist coating of the substrate. In order to ensure the close contact between them , But also a vacuum, the use of atmospheric pressure, the mask uniformly pressed on the photoresist coating exposure.
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