【摘 要】
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采用直流反应磁控溅射法在透明导电ITO玻璃上先沉积三氧化钨(WO 3)薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛(TiO 2).利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电
【机 构】
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沈阳大学机械工程学院,中国科学院金属研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(51302175);辽宁省自然科学基金资助项目(20180550727)
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采用直流反应磁控溅射法在透明导电ITO玻璃上先沉积三氧化钨(WO 3)薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛(TiO 2).利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)考察薄膜表面断面形貌、晶体结构和化学组成.利用紫外-可见-近红外分光光度计和电化学工作站测试薄膜的透射率、循环伏安和计时电流特性,分析其电致变色光学调制幅度和着色效率.结果表明沉积TiO 2后,薄膜仍为无定型结构,表面形貌无明显变化,也未出现分层现象.薄膜表面成分为TiO 2和WO 3.与纯WO 3薄
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