用于软X光反射镜的Ni/C、Mo/Si多层膜的制备

• 作 者: 郑天水 金庆原 邢中菁 沈元华 章志鸣 王之江
• 机 构: 复旦大学物理系,上海光学精密机械研究所
• 出 处: 真空科学与技术学报
• 发表日期: 1990年4期
• 关键词: 透射电子显微镜 光反射 MO/SI Ni/C 石英晶体 膜系 小角 衍射谱 周期结构 调制周期

本文介绍了用石英晶体振荡膜厚速率监控法,制备用于软X光反射镜的Ni/C、Mo/Si多层膜的工艺过程。制备了一系列周期厚度45—75(?),层数多至50层的多层膜样品,并利用X光小角衍射(Cu kα线:1.54(?))、俄歇电子能谱(AES)、透射电子显微镜(TEM),测试和分析它们的周期结构、界面状况、膜层内各元素包括杂质的成分分布,最后对所设计的Mo/Si膜系做了软X光反射特性的理论模拟计算。