【摘 要】
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以中国电子科技集团公司第四十五研究所自主研发的国内首台300mm硅片化学机械抛光(CMP)设备(PG1201型)为平台.为解决CMP过程中普遍存在的硅片加工偏差问题,分析了残余真空、
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究 北京 100176
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以中国电子科技集团公司第四十五研究所自主研发的国内首台300mm硅片化学机械抛光(CMP)设备(PG1201型)为平台.为解决CMP过程中普遍存在的硅片加工偏差问题,分析了残余真空、区域压力和保持环力对硅片表面几何参数的影响;在实验过程中找出了最优工艺参数;提出了相应地解决方案.实验结果表明,通过消除残余真空、合理控制区域压力分布和调整保持环力大小,可有效改善硅片的全局平整度和局部平整度.
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