【摘 要】
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20 0 0年 1 2月 1 1～ 1 4日在 San Fransisco Hilton Towers召开的国际电子器件会议 ( IEDM)上披露了几何尺寸为 1 1 0～ 1 30 nm的下一代 CMOS结构。尽管会议纪要未对其进行充
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20 0 0年 1 2月 1 1～ 1 4日在 San Fransisco Hilton Towers召开的国际电子器件会议 ( IEDM)上披露了几何尺寸为 1 1 0～ 1 30 nm的下一代 CMOS结构。尽管会议纪要未对其进行充分的详细说明 ,但被会议组织者在会议摘要中提及。Fujits和 Sony的研究人员分别阐述了使用金属铜和
The next generation of CMOS structures with geometries of 110-130 nm were disclosed at the International Electronic Devices Conference (IEDM) in San Fransisco Hilton Towers from January 11 to January 14, 2001. Although the meeting minutes did not give a full description of them, the meeting organizers mentioned in the summary of the meeting. Fujitsu and Sony researchers described the use of copper and copper respectively
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