【摘 要】
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对氮离子注入掺杂的微波等离子ＣＶＤ金刚石薄膜进行了场电子发射研究。结果表明，发射具有３阶段特征，即当样品损伤层被击穿、发射体被激活后，稳定的发射建立起来，并表现出优异的发射性能
【机 构】
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兰州大学物理系,北京工业大学应用物理系,中国科学院近代物理研究所
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对氮离子注入掺杂的微波等离子ＣＶＤ金刚石薄膜进行了场电子发射研究。结果表明，发射具有３阶段特征，即当样品损伤层被击穿、发射体被激活后，稳定的发射建立起来，并表现出优异的发射性能，开启电压低（４５Ｖ），发射电流大（１３０ｍＡ）。根据电介质的击穿模型和金属／电介质／真空的发射体模型对结果进行了讨论
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