靶成分和溅射参数对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响

• 作 者: 沈洁 李冠群 李玉阁 李戈扬
• 机 构: 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
• 出 处: 无机材料学报
• 发表日期: 2012年5期
• 关键词: 碳化钒 薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射 vanadium carbide film microstructure mechanical properties
• 基金项目: 国家自然科学基金（51071104）

为了提高碳化物靶溅射薄膜的结晶程度和相应的力学性能，采用等化学计量比的vc靶（n（c）：n（V）=1：1）和富V的VC靶（n（c）：n（v）=0．75：1）通过磁控溅射方法制备了一系列VC薄膜，利用EDS、XRD、SEM和微力学探针研究了靶成分、溅射气压和基片温度对薄膜化学成分、微结构和力学性能的影响．结果表明，对于等化学计量比的VC靶，在Ar气压为2．4-3．2Pa的范围内可获得结晶程度和硬度较高的VC薄膜，其最高硬度为28GPa．而采用富V的VC靶时，在较低的Ar气压（0．6-1．8Pa）下就可获得结