【摘 要】
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贝尔实验室研究的化学镀金工艺已经成功地应用于硅集成电路梁式引线的制造。这种先进的镀金工艺以6微米/小时的速率把金有选择性地镀到衬底上的各个分立图形,在厚度10～12微米
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贝尔实验室研究的化学镀金工艺已经成功地应用于硅集成电路梁式引线的制造。这种先进的镀金工艺以6微米/小时的速率把金有选择性地镀到衬底上的各个分立图形,在厚度10～12微米的范围内,其不均匀性≤10％。梁式引线的图形是用金属网膜掩蔽真空蒸发钛继而蒸发钯或者是用光刻和腐蚀工艺制成。已经证实这种工艺与硅器件上所采用的许多其它材料是相容的。梁式引线的特点是对于机械性能有严格要求,已发现能满足甚至超过系统的要求。由于这种工艺能够得到高的成品率,用之取代普通的梁式引线制造方法是很吸引人的。
The gold plating process studied by Bell Labs has been successfully applied to the manufacture of silicon integrated circuit beam leads. This advanced gold plating process selectively deposits gold on individual discrete patterns on the substrate at a rate of 6 microns per hour with an inhomogeneity of <10% over a thickness of 10 to 12 microns. Beam lead patterns are masked with a metal mesh to evaporate the titanium in vacuum and then evaporate the palladium or by lithography and etching. This process has proven to be compatible with many other materials used on silicon devices. Beam leads are characterized by stringent mechanical requirements and have been found to meet or exceed system requirements. Due to the high yields that can be achieved with this process, it is tempting to replace conventional beam-to-wire manufacturing methods.
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