一种提纯SiCl_4有效方法

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目前,国内用于硅外延工艺的超纯SiCl_4,通常都是采用精馏法提纯的.从原理上讲,精馏法是靠SiCl_4与各种杂质氯化物的沸点不同来实现精馏去杂的.(这种方法,是先将低沸点的氯化物放掉,再将SiCl_4逐步精馏出来,最后留下的是高沸点.)采用这种方法,对于去除绝大部分的金属杂质氯化物,特别是去除非极性的重金属杂质和避免试剂杂质的沾污, At present, ultrapure silicon tetrachloride (SiCl_4) used in silicon epitaxy process is usually purified by distillation.From the principle, the rectification method is based on SiCl_4 and various impurity chlorides boiling point difference to achieve distillation . (This method is to let low boiling point chloride released, then SiCl_4 step by step out, leaving the high boiling point.) Using this method, for the removal of most of the metal impurities chloride, In particular, the removal of non-polar heavy metal impurities and to avoid contamination of reagent impurities,
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