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综述了反应磁控溅射技术的发展情况。分析了模拟反应磁控溅射的/Berg0经典模型;详述了反应磁控溅射过程中迟滞效应和打火现象的产生原理及过程;分析了消除迟滞效应和打火现象的各种方法并提出个人的观点;展望了反应磁控溅射技术的发展趋势。
反应磁控溅射技术的发展情况及趋势
【摘 要】
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综述了反应磁控溅射技术的发展情况。分析了模拟反应磁控溅射的/Berg0经典模型;详述了反应磁控溅射过程中迟滞效应和打火现象的产生原理及过程;分析了消除迟滞效应和打火现象
【机 构】
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核工业西南物理研究院,
【出 处】
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真空科学与技术学报
【发表日期】
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2013年12期
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