【摘 要】
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日本东北大学金属材料研究所的科学家，利用电子回旋加速器共振（ECR）等离子体溅射的方法，成功地外延生长出了非线性光学材料BNN（钡钠铌）晶体薄膜。该所的研究人员在生长BNN晶体薄膜
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日本东北大学金属材料研究所的科学家，利用电子回旋加速器共振（ECR）等离子体溅射的方法，成功地外延生长出了非线性光学材料BNN（钡钠铌）晶体薄膜。该所的研究人员在生长BNN晶体薄膜时，衬底温度被保持在500℃～750℃。当在晶体的C轴方向生长晶体薄膜时，在500℃下形成的薄
Institute of Metal Materials, Tohoku University scientists, the use of electron cyclotron resonance (ECR) plasma sputtering method successfully epitaxial growth out of a nonlinear optical material BNN (barium sodium niobium) crystal film. The researchers in the growth of BNN crystal film, the substrate temperature is maintained at 500 ℃ ~ 750 ℃. When a crystal thin film is grown in the C-axis direction of the crystal, a thin layer is formed at 500 ° C
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