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采用射频磁控溅射法在不同温度的不锈钢基片上制备了氮化铜薄膜电极。通过X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）和光电子能谱（XPS）分别对薄膜的组成和形貌进行了表征分析。电化学测试表明，氮化铜薄膜电极的首次放电比容量为88μAh／（cm^2·μm），首次效率为51％。通过非现场XRD、XPS、交流阻抗图谱以及循环伏安曲线对薄膜电极反应机理进行了分析。