聚合物纳米孔隙增透膜制备工艺的研究

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论述了聚合物纳米孔隙增透膜的制备工艺流程,分析了聚合物材料分子量、实验环境温度和湿度、溶剂挥发性等条件对纳米孔隙增透膜的影响。研究表明,聚合物材料分子量的增大、温度的降低、湿度的升高以及采用挥发性弱的溶剂都将导致增透膜孔隙尺寸的增大,孔隙越大其对光的散射损耗就会增大,所以增透膜的透过率就越低。通过大量的试验分析得出一组较理想的工艺参量:使用低分子量的聚合物材料(小于15 kg/mol),环境温度大于25℃、环境相对湿度小于30%,在采用低沸点的溶剂如四氢呋喃等措施下可有效降低增透膜散射损耗。 The preparation process of polymer nanoporous AR coatings was discussed. The effects of polymer material molecular weight, ambient temperature and humidity, solvent volatility on the AR coating were analyzed. The results show that the increase of polymer molecular weight, the decrease of temperature, the increase of humidity and the use of weak volatile solvents will lead to the increase of pore size of AR coatings. The larger the pore size is, the greater the scattering loss of light will be Large, so the lower the transmittance of the AR coating. Through a large number of experimental analysis, a set of ideal process parameters is obtained: low molecular weight polymer materials (less than 15 kg / mol), ambient temperature greater than 25 ° C, relative humidity less than 30%, low boiling point solvent such as Tetrahydrofuran and other measures can effectively reduce the AR coating scattering loss.
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