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真空电弧沉积Ti薄膜过程的静电探针诊断
真空电弧沉积Ti薄膜过程的静电探针诊断
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tomjohn3168
【摘 要】
:
本文描述了Langmiur静电探针测量系统的构成,该系统可用于等离子体特性的诊断。用该系统检测了等离子体沉积Ti薄膜过程中电子密度与电子温度的典型值。实验表明,该系统性能良
【作 者】
:
王浩
李茂林
【机 构】
:
华中理工大学电力工程系,华中理工大学电力工程系武汉市430074,武汉市430074,武汉市430074
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
1993年4期
【关键词】
:
钛
薄膜
探针诊断
静电
真空电弧沉积
probe diagnostics
plasma paiameters
【基金项目】
:
国家教委回国人员基金
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本文描述了Langmiur静电探针测量系统的构成,该系统可用于等离子体特性的诊断。用该系统检测了等离子体沉积Ti薄膜过程中电子密度与电子温度的典型值。实验表明,该系统性能良好,具有强的抗干扰能力,测量精度高、可以应用于真空电弧沉积过程的监控。
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