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Ｂ４Ｃ涂层提供了低Ｚ（原子序数）和稳定的耐熔表面。在不锈钢和铜合金基片上直接采用真空等离子喷涂法实现２００μｍ～３００μｍ厚的Ｂ４Ｃ涂层，是一种经济，快速且有效第一壁制造工艺。通过对影响Ｂ４Ｃ涂层质量的诸多工艺参数进行优化，在温度和气氛可控的条件下实现抗热冲击性能良好的Ｂ４Ｃ涂层，该涂层适于作为核聚变装置第一壁耐等离子冲刷的保护涂层。