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目的观察表皮生长因子受体反义寡核苷酸经转染后,在胶质细胞中的通透性及稳定性表达. 方法将异硫氰酸荧光素标记的硫代磷酸化修饰型及未修饰型的表皮生长因子受体反义寡核苷酸经阳离子脂质体介导或直接转染胶质细胞,分别于15、30 min、1 h后在荧光显微镜下观察胶质细胞中荧光分布情况. 结果直接转染,修饰型及未修饰型表皮生长因子受体反义寡核苷酸30 min时少数胶质细胞胞浆可见点状荧光分布,4 h后,近50%的细胞可见荧光分布,修饰型可稳定存在于细胞中3～4 h,8 h后荧光消失;脂质体介导转染,表皮生长因子受体反义寡核苷酸15 min进入胶质细胞,4 h后70%～80%的胶质细胞可见荧光分布,非修饰型4 h荧光消失,修饰型可稳定存在于细胞中10～12 h,14 h后荧光消失. 结论脂质体包裹的修饰型表皮生长因子受体反义寡核苷酸能进入胶质细胞内并稳定表达.