【摘 要】
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采用层压成型工艺制备反应烧结碳化硅,其主要工艺步骤包括原材料料片的制备、层压成型、炭化及熔渗四步。材料在热压、炭化及熔渗后尺寸变化率分别为1.13%、1.65%与0.70%。碳
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采用层压成型工艺制备反应烧结碳化硅,其主要工艺步骤包括原材料料片的制备、层压成型、炭化及熔渗四步。材料在热压、炭化及熔渗后尺寸变化率分别为1.13%、1.65%与0.70%。碳化后得到的多孔体具有均匀的孔径分布,其中值孔径为0.23μm。制备的反应烧结碳化硅材料弯曲强度为269±23 MPa,弯曲模量为231±9 GPa,密度为3.016±0.003g/cm3,孔隙率为2.05±0.38%,实现了近净成型法制备高强度反应烧结碳化硅材料。
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