【摘 要】
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一、前言 高磷扩散是硅PNP晶体管制造过程中不可缺少的工序。对于普通硅PNP晶体管来说,高磷扩散的目的是使基区与铝电极引线之间形成N-N~+-Al结构,以获得良好的欧姆接触。而
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一、前言 高磷扩散是硅PNP晶体管制造过程中不可缺少的工序。对于普通硅PNP晶体管来说,高磷扩散的目的是使基区与铝电极引线之间形成N-N~+-Al结构,以获得良好的欧姆接触。而对于硅PNP超高频晶体管,高磷扩散还可以降低基极电阻从而改善高频噪声性能。在硅PNP晶体管的芯片加工制造过程中,高磷扩散一般
I. INTRODUCTION Phosphorus is an indispensable process in the manufacturing of PNP transistors. For ordinary silicon PNP transistors, the purpose of high phosphorus diffusion is to make the N-N ~ + -Al structure between the base region and the aluminum electrode lead to obtain good ohmic contact. For silicon PNP ultra-high frequency transistors, high phosphorus diffusion can also reduce the base resistance to improve high-frequency noise performance. In silicon PNP transistor chip manufacturing process, high-phosphorus proliferation in general
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