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介绍了二甲亚砜（DMSO）取代法制备高岭石/酒石酸（标记为K/T）插层复合物。产物经XRD-6000粉晶衍射和傅立叶变换红外光谱表征。XRD表明：高岭石层间距由0.72 nm扩张到1.09 nm,插层率达50%。红外光谱表明：酒石酸分子的羰基与高岭石的内表面羟基形成了氢键,而羟基与高岭石的硅氧面的氧形成了氢键。酒石酸分子以单分子层平铺于高岭石层间。