【摘 要】
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集成电路工艺研究 期 页离子注入在铝～硅接触中的应用……………………………………·…………………”l(1)一种新的V形槽腐蚀方法……………………………………………………
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集成电路工艺研究 期 页离子注入在铝～硅接触中的应用……………………………………·…………………”l(1)一种新的V形槽腐蚀方法…………………………………………………………………1(5)直接热氮化二氧化硅薄膜的电特性………………………………………………………l(14)起
IC Process Research Page Ion Implantation in Aluminum to Silicon Contact Applications .................................................................................................................................................... Corrosion method ....................................................................... 1 (5) Electrical properties of direct thermal nitriding silicon dioxide film ........................ ....................................... l (14) onwards
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