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本文对防伪印刷中的光学防伪技术领域的专利申请趋势、专利申请产出国和申请人分布进行了统计分析,并重点针对光学防伪四大主要研究方向进行技术分析,对其技术方向和技术手段的发展脉络进行了梳理。通过本文的撰写,以期帮助审查员快速准确地把握技术要点,以提高检索和审查效率。
从专利技术角度浅谈光学防伪技术的发展
【摘 要】
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本文对防伪印刷中的光学防伪技术领域的专利申请趋势、专利申请产出国和申请人分布进行了统计分析,并重点针对光学防伪四大主要研究方向进行技术分析,对其技术方向和技术手段
【机 构】
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国家知识产权局专利局专利审查协作江苏中心
【出 处】
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山东工业技术
【发表日期】
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2015年01期
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