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采用包渗法在Nb-10W合金基体上制备MoSi2涂层，测试了涂层试样的1600℃静态抗氧化和室温至1600℃循环抗氧化性能，分析了硅化过程中涂层的形成机理、涂层表面和截面的形貌以及氧化后涂层成分与结构变化。采用包渗法制备的硅化物涂层是通过反应扩散形成的，该涂层为复合结构：MoSi2相主体层；以NbSi2相为主、并含少量Nb5Si3相的两相过渡区；Nb5Si3相扩散层；该涂层结构表现出良好的高温抗氧化和抗热震性能；Si的扩散是通过空位的反应流动实现的，空位在主体层与两相过渡区界面处聚集成微孔带，氧化后微孔带