美国半导体光学设备动态

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八二年五月随仪表总局半导体光学设备考察组赴美国考察,参观了美国西部半导体设备和材料展览会及若干半导体器件制造和设备制造公司,本文报导了美国在投影光刻机、X射射光刻机的发展情况,还介绍了一些光学检测设备的型号规格等技术参数。 In May 1982, with the visit of the General Administration of Directorate General of Semiconductor Equipment Investigation Group to the United States, the delegation visited the Semiconductor Equipment and Materials Exhibition in the Western United States and several semiconductor device manufacturing and equipment manufacturing companies. This article reports the achievements made by the United States in projection lithography, X-ray The development of engraving machine, also introduced some optical inspection equipment model specifications and other technical parameters.
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