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利用反应磁控共溅射法，在改变掺Al功率的条件下对TiO2薄膜进行掺杂；研究了Al掺杂对Tio2薄膜的表面形貌、晶体结构和禁带宽度的影响，发现Al掺杂后，薄膜晶体结构、禁带宽度均发生变化；并将纯态和掺Al的TiO2薄膜浸入N719染料进行敏化，发现晶体结构的变化对Ti0。薄膜吸附N719染料分子的效率产生重要影响。