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Ｓｉ基ＴｉＮ薄膜界面的显微结构程志英，朱静（冶金部钢铁研究总院，北京１０００８１）离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）是指在电子束蒸发或离子束溅射沉积的同时，用一定能量的离子束进行轰击混合，从而合成单质或化合物薄膜。此方法制备的薄膜的性能优于单一的化学汽相沉积...
Si基TiN薄膜界面的显微结构
【摘 要】
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Ｓｉ基ＴｉＮ薄膜界面的显微结构程志英，朱静（冶金部钢铁研究总院，北京１０００８１）离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）是指在电子束蒸发或离子束溅射沉积的同时，用一定能量的离子束进行轰击混合，从而合成单质或化合物薄膜。
【机 构】
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冶金部钢铁研究总院
【出 处】
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电子显微学报
【发表日期】
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1994年6期
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