【摘 要】
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以Zn金属靶和Zr金属片组成的Zn：Zr为靶材，利用直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO：Zr透明导电薄膜。研究了靶与衬底之间的距离对所制备薄膜结构和性能的影响。实验制备的ZnO
【机 构】
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山东理工大学理学院,西南技术物理研究所
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以Zn金属靶和Zr金属片组成的Zn：Zr为靶材，利用直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO：Zr透明导电薄膜。研究了靶与衬底之间的距离对所制备薄膜结构和性能的影响。实验制备的ZnO：Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜，且具有与衬底方向垂直的C轴择优取向。实验结果表明，靶与衬底之间的距离对ZnO：Zr薄膜的结构、生长速率、密度及电学性能有很大影响。靶与衬底之间的最佳距离为6．0cm，在此条件下制备的ZnO：Zr薄膜具有最小电阻率1．78×10^-3Ω·cm，其可见光透过率为88．5％，
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