平面磁控溅射靶的磁场设计

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磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术[1]、[2]、[3],目前已经在科研和生产中实际应用。磁控溅射与一般溅射相比,具有高速、低温、低损伤等优点。高速,是指淀积速率快;低温和低损伤,是指基片的温升低,损伤小。 磁控溅射之所以具有这些优点,关键在于阴极靶面上具有环状 Magnetron sputtering is a new type of sputtering technology developed in the seventies [1], [2], [3] and has been applied in research and production. Magnetron sputtering compared with the general sputtering, with high speed, low temperature, low damage and so on. High speed, refers to the deposition rate; low temperature and low damage, refers to the substrate temperature is low, less damage. The reason why magnetron sputtering has these advantages, the key is the cathode target surface has a ring
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