用于化合物半导体制造的先进光刻技术

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重点讨论了化合物半导体材料加工中的先进光刻技术应用现状.薄形衬底材料在高频及功率器件中的需求,在处理非常易碎和昂贵的衬底时出现了一些新的问题.这种损伤的风险由于要求的多个加工工序而增大,且在接转生产的采用背面加工时会再次出现.叙述了进行自动光刻加工中片子传递和对准过程的一些解决方法.
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