陶瓷表面加弧辉光离子镀钛改性及其钎焊性

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【摘要】

：

针对常规钎料难以润湿陶瓷表面的问题,利用加弧辉光离子镀膜技术在Si3N4陶瓷表面预沉积了一层高活性的Ti膜.为充分发挥Ti的活性作用,在活性镀Ti层表面进行了二次电镀Ni.试验

【作者】

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张永清任家烈赵彭生

【机构】

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中国科学院电子学研究所,清华大学机械工程系,太原理工大学材料科学与工程学院

【出处】

：

中国机械工程

【发表日期】

：

2004年9期

【关键词】

：

陶瓷镀TI 辉光钎焊镀Ni ceramic Ti plating glow discharge brazing Ni plating

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针对常规钎料难以润湿陶瓷表面的问题,利用加弧辉光离子镀膜技术在Si3N4陶瓷表面预沉积了一层高活性的Ti膜.为充分发挥Ti的活性作用,在活性镀Ti层表面进行了二次电镀Ni.试验表明,在钎焊过程中二次镀Ni层可有效保护Ti膜不被氧化,镀膜陶瓷与金属钎焊接头的剪切强度也显著提高.采用BAg72Cu-V钎料时,镀膜Si3N4陶瓷与金属钎焊接头的剪切强度可达205MPa.

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