13nm窄带Si／Mo／C多层膜反射镜

• 作 者: 易强 黄秋实 王香梅 杨洋 张众 王占山 徐荣昆 彭太平 周
• 机 构: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所,同济大学物理科学与工程学院,中国科学技术大学国家同步辐射实验室
• 出 处: 强激光与粒子束
• 发表日期: 2016年12期
• 关键词: 多层膜 MO/SI Si/Mo/C Z-PINCH 光谱诊断 反射率 带宽 multilayer Mo/Si Si/Mo/CZ-pinch spectrum d
• 基金项目: 国家自然科学基金项目（11443007,11505129,U1430131）,国家重大科学仪器设备开发项目（2012YQ13012505,2012YQ24026402）,上海市浦江人才计划（15PJ1408000）

基于多层膜准单色覆盖50-1500eV能谱的多能点发射光谱测量系统可获得“聚龙一号”装置Z-pinch等离子体X射线源的能谱结构和总能量等信息。考虑装置的条件,在13nm处的多层膜需要工作在掠入射角60°。常规的Mo/Si多层膜尽管反射率最高,但其带宽较大,不能满足多层膜准单色的要求。因此提出将Mo和C共同作为多层膜的吸收层材料与Si组成Si/Mo/C多层膜,可使反射率降低较小而带宽明显减小。采用磁控溅射方法制备了Si/Mo/C多层膜,其掠入射X射线反射测量表面多层膜的结构清晰完整,同步辐射工作