【摘 要】
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建立了反应腔室模型,模拟分析了原子层沉积(ALD)过程中前驱体质量分数随其通气时间的变化趋势.采用ALD法制备了ZnO薄膜,采用原子力显微镜(AFM)与扫描电子显微镜(SEM)对薄膜进行了表征,研究了不同二乙基锌通气时间下ZnO薄膜的表面形貌和厚度均匀性.模拟结果表明,前驱体通气时间越长,前驱体在整个反应腔室内的分布越均匀.在通气时间为300 ms时,二乙基锌可以均匀地分布在反应腔室内.实验以及测试结果表明,沉积温度为200℃时,随着二乙基锌通气时间的增加,薄膜的粗糙度呈现下降的趋势.在二乙基锌通气时间为
【机 构】
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长春理工大学物理学院,长春 130022
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建立了反应腔室模型,模拟分析了原子层沉积(ALD)过程中前驱体质量分数随其通气时间的变化趋势.采用ALD法制备了ZnO薄膜,采用原子力显微镜(AFM)与扫描电子显微镜(SEM)对薄膜进行了表征,研究了不同二乙基锌通气时间下ZnO薄膜的表面形貌和厚度均匀性.模拟结果表明,前驱体通气时间越长,前驱体在整个反应腔室内的分布越均匀.在通气时间为300 ms时,二乙基锌可以均匀地分布在反应腔室内.实验以及测试结果表明,沉积温度为200℃时,随着二乙基锌通气时间的增加,薄膜的粗糙度呈现下降的趋势.在二乙基锌通气时间为300 ms时,样品粗糙度为3.52 nm.此外,随前驱体通气时间的增加,薄膜厚度也会有所增加,生长的薄膜也更加致密、均匀.
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