蔗糖羟基保护的选择性去除

• 作 者: 吴福忠 张平 蔡水洪 龙中柱 徐轶
• 机 构: 华东理工大学化工学院,上海东岳生物化工有限公司
• 出 处: 华东理工大学学报(自然科学版)
• 发表日期: 2009年1期
• 关键词: 羟基的去保护 选择性 6-PAS 一体化反应

将蔗糖全基团保护物（TRISPA）中羟基的保护基团进行选择性去除,制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖（6-PAS）,并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响,采用了去除羟基上保护基团和乙酰基迁移一体化反应,反应的选择性80%,6-PAS收率52%,液相色谱分析6-PAS的纯度为99%。