【摘 要】
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配位体缓冲溶液是由配位体和过量金属离子组成的。它是常用的掩蔽剂之一,尤以我国应用较多。Tanakan首先引入“配位体缓冲溶液”的概念,并将配位体平衡式按Taylor级数展开,
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配位体缓冲溶液是由配位体和过量金属离子组成的。它是常用的掩蔽剂之一,尤以我国应用较多。Tanakan首先引入“配位体缓冲溶液”的概念,并将配位体平衡式按Taylor级数展开,得到配位体浓度与缓冲组分比的近似关系式,从而得出某些重要结论。本文采用Ringbom处理副反应的方法,对配位体缓冲溶液重新加以研究,并提出缓冲容量的新的定义及其计算公式。
Ligand buffer solution is composed of ligands and excess metal ions. It is one of the commonly used masking agents, especially in our country. Tanakan firstly introduced the concept of “ligand buffer solution” and developed the equilibrium of ligands according to the Taylor series to obtain the approximate relationship between the ligand concentration and the buffer component ratio. Some important conclusions were drawn. In this paper, Ringbom is used to deal with the side reaction, the ligand buffer solution is re-studied, and a new definition of buffer capacity and its formula is proposed.
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