在双层金属修饰的n~+/p-Si光阳极上的催化析氧

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n-Si光阳极极化时,很容易生成绝缘的SiO_2层,导致光钝化。Bard A.J.和NozikA.J.等用导电的聚吡咯膜和聚苯胺膜保护后,n-Si光阳极在许多氧化-还原电对的溶液中,稳定性得到改进,但膜容易氧化,仍不能进行水的光氧化反应。本文报导在n~+/p-Si片上,先溅射40左右的铂层,再电镀一薄层钨-镍合金后,光阳极可具有较高和较稳定的析氧速度。 When n-Si photoanode polarizes, it is easy to form an insulating SiO 2 layer, resulting in photo-passivation. Bard AJ and Nozik A. J. et al., Protection of Conductive Polypyrrole Membranes and Polyaniline Films, n-Si Photoanode in Stability of Many Redox Electron-Pair Solutions Improved, However, Oxidation of Membranes Easily Does Not Work Photooxidation of water. This paper reports that on the n ~ + / p-Si films, about 40 platinum layers are sputtered first, and then a thin layer of tungsten-nickel alloy is plated, the photoanodes can have a higher and more stable oxygen evolution rate.
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