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在室温条件下，用直流磁控溅射Cu靶制备出了不同厚度的Cu膜，测量了Cu膜的光学透过率和面电阻，分析了光电性质薄膜厚度的变化情况．实验结果表明，随着Cu膜厚度的增加，其光学透过率逐渐减小，透过率在波长为580nm处出现峰值．Cu膜的面电阻随薄膜厚度的增加先急剧减小，然后减小变得缓慢，最后趋于定值．理论模拟了Cu膜的光学透过率随薄膜厚度的变化和光学透过率随入射光波长的变化，理论模拟结果与实验结果吻合．