LaNiO3溅射薄膜的光学和电学特性的研究

• 作 者: 赵强 赖珍荃 黄志明 陈静 褚君浩
• 机 构: 中国科学院上海技术物理所红外物理国家实验室
• 出 处: 功能材料与器件学报
• 发表日期: 2003年1期
• 关键词: LaNiO3薄膜 射频溅射 光学特性 表面电阻 LaNiO_3 rf-magnetron sputtering optical property sheet r

采用 LaNiO3陶瓷靶和射频磁控溅射技术在 350℃的 K9玻璃衬底上制备出了具有较好( 100) 择优取向的 LaNiO3薄膜.通过对不同厚度薄膜的光学、电学以及薄膜结构等物理特性的测试分析, 发现薄膜厚度小于 100nm时为非晶结构,厚度大于 150nm后出现了具有( 100)择优取向的 LaNiO3 相.非晶结构的 LaNiO3具有较高的面电阻和高的光学透射率,而晶化的 LaNiO3薄膜具有类似于金 属的导电能力和光学特性.薄膜的生长动力学和导电分析结果认为薄膜生长的初期会形成一个非 晶过渡层.