【摘 要】
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一、主要钝化性能我们采用MOS电容器、铝膜电阻器及晶体管进行试验。图1是钝化试验用的MOS电容器截面图。这个电容器模拟器件的钝化工艺。除压焊点以外,全部保护在SiN下面,
【机 构】
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华东师范大学,华东师范大学,华东师范大学
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一、主要钝化性能我们采用MOS电容器、铝膜电阻器及晶体管进行试验。图1是钝化试验用的MOS电容器截面图。这个电容器模拟器件的钝化工艺。除压焊点以外,全部保护在SiN下面,其中热生长约10000A的厚SiO_2,再热生长约1000A
First, the main passivation performance We use MOS capacitors, aluminum film resistors and transistors for testing. Fig. 1 is a cross-sectional view of a MOS capacitor for passivation test. This capacitor simulates the passivation process of the device. Except for the solder joints, all of them were protected under the SiN, in which thick SiO 2 was grown to a thickness of about 10000 A and then thermally grown to about 1000 A
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