等离子体扩散流中金属平板上下游的鞘层结构

• 作 者: 郑尧邦 马锦秀 李毅人 李卫
• 机 构: 中国科学技术大学近代物理系,中国空气动力研究与发展中心
• 出 处: 核聚变与等离子体物理
• 发表日期: 2012年1期
• 关键词: 等离子体鞘层 上下游 边界电场 Plasma sheath Upstream and downstream Edge electric field
• 基金项目: 国家自然科学基金资助课题（10875121,40831062）,中国科学院知识创新工程资助课题（kjcx2-yw-n28）,国家重点基础研究项目资助课题（2009GBl05001,2008CB717800）

利用发射探针诊断了处于扩散等离子体流场中平板两侧的鞘层电势分布并给出鞘层厚度及边界电场。结合Child-Langmuir（CL）定律并利用一维流体模型，分析对比了鞘厚及边界电场。结果显示，上下游的鞘层呈现不对称结构，下游比上游厚，边界电场下游比上游弱，并且下游的预鞘还呈现类似虚阳极的结构。上下游CL鞘的厚度满足线性比例关系，比例系数约为1．2，且实验值与理论值非常接近。上下游CL鞘的边界电场与模型Te（eλD）比较接近，上游Bohm鞘边界电场的实验结果与过渡区模型Te／（eλd^[3/5]λ1^[2/5]