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分别用ＰＣＭＢ、ＮＥＭ、Ｎ－ＡＩ、ＮＢＳ等对诺卡氏菌形放线菌β－Ｄ－甘露聚糖酶进行化学修饰，证明蛋白上的巯基、酪氨酸残基及色氨酸残基是维持酶活性的必需基因。在加入少量底物后，β－Ｄ－甘露聚糖酶的最大荧光发射峰从天然状态下的３３６ｎｍ处蓝移至３３２ｎｍ，且峰强度有所增大，这表明其色氨酸残基隐藏在蛋白内部的疏水区域，通过对该酶圆二色性扫描光谱的分析，表明蛋白内部有二硫键的存在；通过巯基乙醇化学修饰的研