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研究了以KT和IAA为诱导剂,培养基中的不同pH值、NH4^+-N含量(总氮80mmol/L)对离体黄瓜去根苗生长和雌花诱导的影响.发现NH4^+-N占总氮(TN)比例在12.5%-50%范围内,37.5%时的营养生长较健壮,雌花诱导率达36%.pH值在5.4-6.6范围内,6.2时的营养生长旺盛,雌花诱导率达35%.因此,控制培养基中pH值和NH4^+-NN含量,可以调节离体黄瓜去根苗的营养生长,促进雌花诱导.