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光刻伺服盘是一种新的磁头伺服定位技术。本文分析了利用高频溅射法刻蚀光刻伺服盘的刻蚀机理,并对主要的刻蚀参数如溅射电压、气体压力等对刻蚀精度的影响作了比较详细的讨论。
利用高频溅射刻蚀光刻伺服盘工艺参数的确定
【摘 要】
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光刻伺服盘是一种新的磁头伺服定位技术。本文分析了利用高频溅射法刻蚀光刻伺服盘的刻蚀机理,并对主要的刻蚀参数如溅射电压、气体压力等对刻蚀精度的影响作了比较详细的讨
【机 构】
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华中理工大学计算机系,华中理工大学计算机系430074,430074,430074
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1993年3期
【基金项目】
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国家自然科学重点基金
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