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硅靶中频反应磁控溅射二氧化硅薄膜的特性研究

来源 :真空 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sjtwwf

【作 者】

：

许生  侯晓波  范垂祯  赵来  周海军  吴克坚  高文波 

【出 处】

：

真空

【发表日期】

：

2001年11期

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